化學(xué)氣相沉積(CVD)是一種通過氣相化學(xué)反應(yīng)在被加熱的固體表面生成固相沉積物的工藝方法。該方法可生產(chǎn)傳統(tǒng)的粉末冶金方法無法生產(chǎn)的薄壁、小尺寸或者異型件等制品。
熔點(diǎn)高(3410℃),高溫導(dǎo)電性好,熱膨脹系數(shù)很小。
純度高、致密度高、硬度高、加工性能好 。
具有100%致密的柱狀晶結(jié)構(gòu),產(chǎn)品無裂紋。
可生產(chǎn)薄壁、小尺寸、異型件 。
優(yōu)良的防腐性能 。
W純度
Purity
密度
Density
維氏硬度
Hardness
加工性能
Machinability
導(dǎo)電性Conductivity
>99.9%
>19.2 g/cm3
Hv 400~600
可加工 OK
良好 Good
產(chǎn)品類型
Type
規(guī)格尺寸
Dimension
長度
Length
沉積厚度
Deposition thickness
可加工性
毛細(xì)管 Capillary
內(nèi)徑 ID≧0.2mm
≤50cm
≤5mm
Good
管材 Tube
內(nèi)徑 ID 5mm-100mm
≤100cm
≧0.2mm
棒材 Rod
customized
≧0.1mm
板材 Plate
OK
坩堝 Crucible
φ≤200mm
≤40cm
≤10mm
異型件 Component
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