一、真空箱式爐應用領域    

該真空箱式爐以1800型硅鉬棒為加熱元件，采用雙層殼體結構和40段程序控溫系統，移相觸發、可控硅控制，爐膛采用氧化鋁多晶纖維材料，真空箱式爐廣泛應用于金屬材料在低真空、還原性、保護性氣氛下的熱處理；也可以用于特殊材料的熱處理。

二、真空箱式爐主要特點    

爐門口安裝有水冷系統，氣體經過流量計后由后膛進入，并有多處洗爐膛進氣口，出氣口處有燃燒嘴，可以通氫氣、氬氣、氮氣、氧氣、一氧化碳等氣體，能抽真空，真空度可達5pa,該爐具有溫場均衡、表面溫度低、升降溫度速率快、節能等優點，是高校、科研院所、工礦企業做氣氛保護燒結、氣氛還原用的理想產品。