化學氣相沉積(CVD)是一種通過氣相化學反應在被加熱的固體表面生成固相沉積物的工藝方法。該方法可生產傳統的粉末冶金方法無法生產的薄壁、小尺寸或者異型件等制品。
熔點高(3410℃),高溫導電性好,熱膨脹系數很小。
純度高、致密度高、硬度高、加工性能好 。
具有100%致密的柱狀晶結構,產品無裂紋。
可生產薄壁、小尺寸、異型件 。
優良的防腐性能 。
W純度
Purity
密度
Density
維氏硬度
Hardness
加工性能
Machinability
導電性Conductivity
>99.9%
>19.2 g/cm3
Hv 400~600
可加工 OK
良好 Good
產品類型
Type
規格尺寸
Dimension
長度
Length
沉積厚度
Deposition thickness
可加工性
毛細管 Capillary
內徑 ID≧0.2mm
≤50cm
≤5mm
Good
管材 Tube
內徑 ID 5mm-100mm
≤100cm
≧0.2mm
棒材 Rod
customized
≧0.1mm
板材 Plate
OK
坩堝 Crucible
φ≤200mm
≤40cm
≤10mm
異型件 Component
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